磁控反应溅射制备Ta-N 薄膜 的显微组织与畸变分析
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摘要: 利用直流磁控反应溅射技术制备了Ta2N 薄膜。利用TEM、XRD 研究了薄膜显微组织 及结构。研究表明, 薄膜晶粒细小, 可达到10 nm; 在一定工艺条件下制备的Ta2N 薄膜 为多相共存结构; 磁控反应溅射制备Ta2N 薄膜, 沉积压力对薄膜晶粒的显微畸变影响 较大, 沉积压力降低, 晶粒显微畸变增加, 导致薄膜中产生较大的微观应力。
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